台式数控超声波清洗器
产品型号 SD2800H超声功率（W） 600加热功率（W） 600容量（L） 22.5槽内尺寸（mm)L×W×H 500×300×150外形尺寸（mm)L×W×H 570×330×330超声频率（KHz） 40选配 降音盖、排水 网架、降音盖、排水价格（元） 10500（元） 11000（元）
舒美牌KQ5200V台式超声波清洗器
超声发生源与清洗槽为一体化。主要适用于商业、轻工、大专院校、科研单位的小批量清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取、粉料粉碎及细胞粉碎。
舒美牌KQ-700台式超声波清洗器
超声发生源与清洗槽为一体化。主要适用于商业、轻工、大专院校、科研单位的小批量清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取、粉料粉碎及细胞粉碎。
舒美牌KQ-500台式超声波清洗器
超声发生源与清洗槽为一体化。主要适用于商业、轻工、大专院校、科研单位的小批量清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取、粉料粉碎及细胞粉碎。
医用快速清洗消毒机
使用范围医院手术器械、剪刀、止血钳和其他金属器械；各种麻醉器械、呼吸管、麻醉管、各种导管等；各种器皿、换药碗、试管、烧杯、各种盘子、圆桶、测压器等；是医院手术室、供应室及消毒中心的必备设备。
反应离子刻蚀/沉积等离子处理系统(反应离子刻蚀（RIE）及等离子体增强化学气相沉积 （PEVCD）系统、 薄膜沉积、刻蚀、表面处理、材料改性、金属刻蚀、粘合促进
BM8-II是一款定义反应离子刻蚀（RIE）及等离子体增强化学气相沉积 （PEVCD）等离子处理新概念的等离子处理系统。BM8-II反应离子刻蚀（RIE）/沉积（PEVCD）等离子处理系统基于模块化设计制造，采用一款通用的真空处理舱及机柜。
等离子清洗机
等离子清洗机VP-R3真空腔体石英玻璃材质，频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32℃，不损伤样品，适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。
恒温数控超声波清洗器
超声波发生源与清洗槽为一体的双频恒温数控超声波清洗器，国际先进、国内首创。突破了几十年来的超声液温根据超声时间长短、功率大小、密封程度来决定升温快慢，
玻璃器皿清洗机
本机主要适用于高校实验室、药厂、医院口腔科、科研机构对玻璃、塑料、橡胶等物品的清洗。包括培养皿、玻片、移液管、消解罐、色谱瓶、试管、三角瓶、锥形瓶、烧杯、烧瓶、量筒、容量瓶、西林瓶、蓝盖瓶、漏斗、搅拌器、旋阀等